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半导体生产废水处理工艺特点

文章来源:污水处理技术 作者:污水处理技术 时间:2020-02-24 11:02:18

     在国家的发展进程中,半导体是受到较为重视的一项行业,其中半导体生产废水处理我们需要进行解决克服的基本内容,只有将废水处理进行必要的完善,才能使我国半导体行业的生产竞争能力更强。

  半导体生产废水主要来自车间的镀槽、清洗水等,废水中含有的主要污染物有:Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸碱等。半导体生产废水排放量大,废水污染物种类多,成份复杂,尤其是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质方面的差异,使半导体废水回用对常规技术处理造成了挑战。

  本系统通过膜生物反应器和三级处理系统,对半导体废水进行处理,使之达到新的严格的环境规定,实际在工厂内的再次利用。本系统不仅能有效地节约有限的水资源,从而减轻对水资源的消耗,缓解日趋突出的用水紧张矛盾,而且能减少污水的排放,减轻对周围水体的污染,改善人类居住环境。

废水处理

  半导体废水处理工艺特点:

  1、三低一零

  本系统淤泥产出量低、臭气产出量低、能量需求量低,化学品需要量最小或为零。

  2、资源利用

  经本系统处理后的回用水,满足严格的工厂回用水品质要求,可供应纯水系统或直接回用到生产线。

  3、性价比高

  本系统操作便捷,抗冲击负荷,占地紧凑,稳定性高,运转成本低,经过大量成功案例验证。

  以上便是关于半导体生产废水处理工艺特点的简单介绍,了解更多污水处理行业资讯信息,欢迎关注我们的网站。

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